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Potassio di grado elettronico per solfato K2S2O8 con forte potere ossidante

Potassio di grado elettronico per solfato K2S2O8 con forte potere ossidante

Moq: 10tons
Prezzo: Please contact customer service
Imballaggio standard: Insaccato
Periodo di consegna: Circa sei settimane
Metodo di pagamento: T/t
Capacità di alimentazione: 100.000 tonnellate all'anno
Informazioni Dettagliate
Luogo di origine
Cina
Marca
SiChun HongJian
Numero di modello
Persolfato di potassio
Alias:
Persolfato di potassio
Formula chimica:
K2S2O8
Aspetto:
cristallo bianco
Punto di fusione:
1067 ℃
Punto di ebollizione:
1689 ℃
Evidenziare:

Potassio di grado elettronico per solfato

,

K2S2O8 potassio per solfato

,

Cas n. 7727 21 1

Descrizione del prodotto
Persolfato di potassio 99% di grado elettronico Persolfato di potassio di alta purezza di uso quotidiano
Visualizzazione del prodotto

Il nostroPersolfato di potassio (K2S2O8)è un agente ossidante di alta qualità ampiamente utilizzato come iniziatore di polimerizzazione, agente di incisione e disinfettante.svolge funzioni critiche nella sintesi chimica, dell'elettronica e del trattamento delle acque.

 
Specifiche tecniche
Formula chimica K2S2O8
Purezza ≥99% (grado di reagente ACS)
Apparizione Polvere cristallina bianca
Ossigeno attivo ≥ 5,6%
Solubilità 50 g/l (20°C in acqua)
Temperatura di decomposizione. ≥ 100°C
Imballaggio 25 kg/tamburo o su misura
 
Caratteristiche e vantaggi principali
Forte potere ossidante- Potenziale redox standard di 2,01 V
Eccellente stabilità termica- Manipolazione sicura a temperatura ambiente
Purezza elevata- Basso contenuto di metalli pesanti (< 5 ppm)
Solubile in acqua- Soluzioni di lavoro facili da preparare
Applicazioni multi-industriali- Prestazioni versatili
 
Applicazioni principali
1Industria dei polimeri
  • Iniziatore primario per la polimerizzazione dell'acrilico, del PVC e dello stirene
  • Essenziale per i processi di polimerizzazione delle emulsioni
2Produzione elettronica
  • Acciaio per l'incisione di PCB e detergente per microelettronica
  • Trattamento superficiale di wafer di silicio
3Trattamento dell'acqua
  • Reagente di processo di ossidazione avanzata (AOP)
  • Degrada gli inquinanti organici nelle acque reflue
4. tessile e cosmetici
  • Activatore di candeggina per capelli
  • Agenti di decolorazione e sbiancamento tessili
 
Acido ossalico (C2H2O4) - Prodotto complementare

Formula chimica: C2H2O4

Applicazioni principali:
  • Trattamento delle superfici metalliche: rottura e lucidatura
  • Intermediari farmaceutici: Produzione di ossalato di calcio
  • Sbiancamento del legno: Restauro di mobili antichi
  • Chimica analitica: Precipitazioni di elementi di terre rare
 
Sicurezza e manipolazione
  • Immagazzinamento: luogo fresco e asciutto lontano da materiali organici
  • Protezione: DPI richiesti (guanti, occhiali, respiratori)
  • Incompatibilità: riduttori, materiali combustibili
  • ¢ Primo soccorso: Sciacquare gli occhi/la pelle con acqua in caso di contatto
 
Assicurazione della qualità
  • Consistenza da lotto a lotto
  • Produzione certificata ISO 9001
  • Disponibile una SDS completa
  • Rapporti di prove di laboratorio di terze parti
 
Perché scegliere noi?
Prodotti di alta purezza, conformi alle norme internazionali
30+ anni di esperienza nella produzione chimica
QC rigoroso con tracciabilità dei lotti
Logistica globale a sostegno dei trasporti marittimi e aerei
Supporto tecnico, fornitura di soluzioni personalizzate
Fornitura diretta in fabbrica, con una forte competitività dei prezzi
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