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Natriumperoxodisulfat Na₂S₂O₈ in Elektronikqualität mit SEMI-Standard und geringen metallischen Verunreinigungen für industrielle Anwendungen
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Natriumperoxodisulfat Na₂S₂O₈ in Elektronikqualität mit SEMI-Standard und geringen metallischen Verunreinigungen für industrielle Anwendungen
| MOQ: | 10tons |
| Preis: | Please contact customer service |
| Standardverpackung: | Verpackt |
| Lieferzeit: | Ungefähr sechs Wochen |
| Zahlungsmethode: | T/t |
| Versorgungskapazität: | 100.000 Tonnen pro Jahr |
Detailinformationen
Herkunftsort
CHINA
Markenname
SiChun HongJian
Modellnummer
Natrium -Persulfat
Chemische Formel:
Na₂s₂o₈
CAS -Nummer:
7775-27-1
Aussehen:
Weißes kristallines Pulver
Hervorheben:
Natriumpersulfat von hoher Reinheit
,Natriumperoxodisulfat Na₂S₂O₈ Oxidation
,Industrielles Natriumperoxodisulfat mit Garantie
Produktbeschreibung
Natriumpersulfat Na2S2O8 mit hoher Reinheit zur industriellen Oxidation
1Natriumpersulfat - Elektronik
Produktpositionierung
Hongjian Chemical ist spezialisiert auf die Lieferung von hochreinem Natriumpersulfat für die globale Elektronikindustrie und arbeitet mit ISO-zertifizierten Herstellern zusammen, um eine erstklassige Qualität zu gewährleisten.Mindestbestellmenge5 Tonnen.
Produktpositionierung
Hongjian Chemical ist spezialisiert auf die Lieferung von hochreinem Natriumpersulfat für die globale Elektronikindustrie und arbeitet mit ISO-zertifizierten Herstellern zusammen, um eine erstklassige Qualität zu gewährleisten.Mindestbestellmenge5 Tonnen.
- Alias:Natriumperoxiddisulfat
- Englischer Name:Natriumpersulfat
- Chemische Formel:Na2S2O8
- Molekülgewicht:238.10
- CAS-Nummer7775-27-1
Schlüsselmerkmale
- Ultra-hohe Reinheit
- Niedrige metallische Verunreinigungen
- Ausgezeichnete Löslichkeit
Produktspezifikationen
Qualitätsstandards
- Reinheitsgrad: Elektronikgrad (SEMI-Standard)
- Verpackung: 25 kg doppelgeschichtete antistatische Beutel
- MOQ: 5 Tonnen
Technische Parameter
| Parameter | Spezifikation |
|---|---|
| Na2S2O8-Gehalt | ≥ 99,8% |
| Kupfer (Cu) | ≤ 0,2 ppm |
| Eisen (Fe) | ≤ 0,5 ppm |
| Nickel (Ni) | ≤ 0,1 ppm |
| Chlorid | ≤ 3 ppm |
| Partikel > 1 μm | ≤ 50/ml |
Hauptanwendungen
Herstellung von Halbleitern
- Reinigung von Siliziumwaffen für europäische Halbleiterfabriken
- Photoresistent striping für koreanische Displayhersteller
- Herstellung von MEMS-Geräten für japanische Elektronikunternehmen
PCB-Produktion
- Lösungen für die Mikroätscherung von PCB-Herstellern in Taiwan
- Kupferoberflächenbehandlung für chinesische Leiterplattenfabriken
- Reinigung elektronischer Bauteile für den indischen Elektronikbereich
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