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Persolfato di sodio di grado elettronico Na2S2O8 con impurezze metalliche basse e standard SEMI per applicazioni industriali
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Contattici
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Persolfato di sodio di grado elettronico Na2S2O8 con impurezze metalliche basse e standard SEMI per applicazioni industriali
| Moq: | 10tons |
| Prezzo: | Please contact customer service |
| Imballaggio standard: | Insaccato |
| Periodo di consegna: | Circa sei settimane |
| Metodo di pagamento: | T/t |
| Capacità di alimentazione: | 100.000 tonnellate all'anno |
Informazioni Dettagliate
Luogo di origine
Cina
Marca
SiChun HongJian
Numero di modello
Persolfato di sodio
Formula chimica:
Na₂s₂o₈
Numero CAS:
7775-27-1
Aspetto:
Polvere cristallina bianca
Evidenziare:
Persolfato di sodio di alta purezza industriale
,Ossidazione con persolfato di sodio Na₂S₂O₈
,Persolfato di sodio industriale con garanzia
Descrizione del prodotto
Persolfato di Sodio ad Alta Purezza Na₂S₂O₈ per Ossidazione Industriale
1. Persolfato di Sodio - Grado Elettronico
Posizionamento del Prodotto
Hongjian Chemical è specializzata nella fornitura di persolfato di sodio ad alta purezza per l'industria elettronica globale, collaborando con produttori certificati ISO per garantire una qualità premium. Quantità minima ordinabile: 5 tonnellate.
Posizionamento del Prodotto
Hongjian Chemical è specializzata nella fornitura di persolfato di sodio ad alta purezza per l'industria elettronica globale, collaborando con produttori certificati ISO per garantire una qualità premium. Quantità minima ordinabile: 5 tonnellate.
- Alias: Perossidisolfato di Sodio
- Nome Inglese: Sodium Persulfate
- Formula Chimica: Na₂S₂O₈
- Peso Molecolare: 238.10
- Numero CAS: 7775-27-1
Proprietà Chiave
- Purezza ultra-elevata
- Basse impurità metalliche
- Solubilità eccellente
Specifiche del Prodotto
Standard di Qualità
- Grado di Purezza: Grado Elettronico (Standard SEMI)
- Confezione: sacchi antistatici a doppio strato da 25 kg
- MOQ: 5 tonnellate
Parametri Tecnici
| Parametro | Specifiche |
|---|---|
| Contenuto di Na₂S₂O₈ | ≥99.8% |
| Rame (Cu) | ≤0.2 ppm |
| Ferro (Fe) | ≤0.5 ppm |
| Nichel (Ni) | ≤0.1 ppm |
| Cloruro | ≤3 ppm |
| Particelle >1μm | ≤50/ml |
Applicazioni Principali
Produzione di Semiconduttori
- Pulizia di wafer di silicio per fabbriche di semiconduttori europee
- Rimozione di fotorresistenti per produttori di display coreani
- Fabbricazione di dispositivi MEMS per aziende elettroniche giapponesi
Produzione di PCB
- Soluzioni di micro-incisione per produttori di PCB taiwanesi
- Trattamento superficiale del rame per fabbriche di circuiti stampati cinesi
- Pulizia di componenti elettronici per il settore dell'elettronica indiano
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