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Persulfato de Sódio Grau Eletrônico Na₂S₂O₈ com Padrão SEMI e Baixas Impurezas Metálicas para Aplicações Industriais
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Persulfato de Sódio Grau Eletrônico Na₂S₂O₈ com Padrão SEMI e Baixas Impurezas Metálicas para Aplicações Industriais
| MOQ: | 10tons |
| Preço: | Please contact customer service |
| Embalagem padrão: | Ensacado |
| Período de entrega: | Cerca de seis semanas |
| Método de pagamento: | T/T. |
| Capacidade de fornecimento: | 100.000 toneladas por ano |
Informações Detalhadas
Lugar de origem
CHINA
Marca
SiChun HongJian
Número do modelo
Persulfato de sódio
Fórmula química:
Na₂s₂o₈
Número CAS:
7775-27-1
Aparência:
Pó cristalino branco
Destacar:
Persulfato de sódio de alta pureza industrial
,Persulfato de sódio Na2S2O8 oxidação
,Persulfato de sódio industrial com garantia
Descrição do produto
Persulfato de Sódio de Alta Pureza Na₂S₂O₈ para Oxidação Industrial
1. Persulfato de Sódio - Grau Eletrônico
Posicionamento do Produto
A Hongjian Chemical é especializada no fornecimento de persulfato de sódio de alta pureza para a indústria eletrônica global, em parceria com fabricantes com certificação ISO para garantir qualidade premium. Quantidade mínima de pedido: 5 toneladas.
Posicionamento do Produto
A Hongjian Chemical é especializada no fornecimento de persulfato de sódio de alta pureza para a indústria eletrônica global, em parceria com fabricantes com certificação ISO para garantir qualidade premium. Quantidade mínima de pedido: 5 toneladas.
- Sinônimos: Peroxidisulfato de Sódio
- Nome em Inglês: Sodium Persulfate
- Fórmula Química: Na₂S₂O₈
- Peso Molecular: 238.10
- Número CAS: 7775-27-1
Principais Propriedades
- Pureza ultra-alta
- Baixas impurezas metálicas
- Excelente solubilidade
Especificações do Produto
Padrões de Qualidade
- Grau de Pureza: Grau Eletrônico (Padrão SEMI)
- Embalagem: Sacos duplos antiestáticos de 25 kg
- MOQ: 5 toneladas
Parâmetros Técnicos
| Parâmetro | Especificação |
|---|---|
| Conteúdo de Na₂S₂O₈ | ≥99.8% |
| Cobre (Cu) | ≤0.2 ppm |
| Ferro (Fe) | ≤0.5 ppm |
| Níquel (Ni) | ≤0.1 ppm |
| Cloreto | ≤3 ppm |
| Partículas >1μm | ≤50/ml |
Aplicações Primárias
Fabricação de Semicondutores
- Limpeza de wafers de silício para fábricas de semicondutores europeias
- Remoção de fotorresistente para fabricantes de displays coreanos
- Fabricação de dispositivos MEMS para empresas de eletrônicos japonesas
Produção de PCB
- Soluções de micro-gravação para fabricantes de PCB taiwaneses
- Tratamento de superfície de cobre para fábricas de placas de circuito chinesas
- Limpeza de componentes eletrônicos para o setor de eletrônicos indiano
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