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Persulfato de sodio de grado electrónico Na₂S₂O₈ con estándar SEMI y bajas impurezas metálicas para aplicaciones industriales
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Persulfato de sodio de grado electrónico Na₂S₂O₈ con estándar SEMI y bajas impurezas metálicas para aplicaciones industriales
| Moq: | 10tones |
| Precio: | Please contact customer service |
| Embalaje Estándar: | Ensacado |
| Período De Entrega: | Unas seis semanas |
| Método De Pago: | T/T |
| Capacidad De Suministro: | 100,000 toneladas por año |
Información Detallada
Lugar de origen
PORCELANA
Nombre de la marca
SiChun HongJian
Número de modelo
Persulfato de sodio
Fórmula química:
Na₂s₂o₈
Número de CAS:
7775-27-1
Apariencia:
Polvo cristalino blanco
Resaltar:
Persulfato de sodio industrial de alta pureza
,Oxidación con persulfato de sodio Na₂S₂O₈
,Persulfato de sodio industrial con garantía
Descripción del Producto
Persulfato de sodio de alta pureza Na2S2O8 para la oxidación industrial
1Persulfato de sodio de grado electrónico
Posicionamiento del producto
Hongjian Chemical se especializa en el suministro de persulfato de sodio de alta pureza para la industria electrónica global, asociándose con fabricantes certificados ISO para garantizar una calidad superior.Cantidad mínima de pedido5 toneladas.
Posicionamiento del producto
Hongjian Chemical se especializa en el suministro de persulfato de sodio de alta pureza para la industria electrónica global, asociándose con fabricantes certificados ISO para garantizar una calidad superior.Cantidad mínima de pedido5 toneladas.
- Alias:Peróxido de sodio disulfato
- Nombre en inglés:Persulfato de sodio
- Formula química:Na2S2O8
- Peso molecular:238.10
- Número CAS:7775-27-1
Propiedades clave
- Ultra alta pureza
- Bajas impurezas metálicas
- Excelente solubilidad
Especificaciones del producto
Normas de calidad
- Grado de pureza: grado de electrónica (norma SEMI)
- Embalaje: bolsas antiestáticas de doble capa de 25 kg
- MOQ: 5 toneladas
Parámetros técnicos
| Parámetro | Especificación |
|---|---|
| Contenido de Na2S2O8 | ≥ 99,8% |
| El cobre (Cu) | ≤ 0,2 ppm |
| El hierro (Fe) | ≤ 0,5 ppm |
| El níquel (Ni) | ≤ 0,1 ppm |
| Cloruro | ≤ 3 ppm |
| Partículas > 1 μm | ≤ 50/ml |
Aplicaciones principales
Fabricación de semiconductores
- Limpieza de obleas de silicio para fábricas europeas de semiconductores
- Desmontaje de fotoresistencia para fabricantes de pantallas coreanos
- Fabricación de dispositivos MEMS para empresas de electrónica japonesas
Producción de PCB
- Soluciones de micro-grabación para fabricantes de PCB de Taiwan
- Tratamiento superficial de cobre para las fábricas chinas de placas de circuito
- Limpieza de componentes electrónicos para el sector electrónico indio
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