produits
EINZELHEITEN ZU DEN PRODUKTEN
Haus > Produits >
Hohe Reinheit 99,99% Ammoniumpersulfat (APS) in elektronischer Qualität für PCB-Etching und Halbleiterherstellung

Hohe Reinheit 99,99% Ammoniumpersulfat (APS) in elektronischer Qualität für PCB-Etching und Halbleiterherstellung

MOQ: 10 Tonnen
Preis: Please contact customer service
Standardverpackung: Sack- und Tonnensäcke
Lieferzeit: Ungefähr sechs Wochen
Zahlungsmethode: L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Versorgungskapazität: 100.000 Tonnen pro Jahr
Detailinformationen
Herkunftsort
China
Markenname
SiChun HongJian
Modellnummer
Ammonium -Persulfat
Dokumentieren
Chemische Formel:
(NH4) 2S2O8
CAS-LOGON-Zahl:
7727-54-0
EINECS-Login-Nummer:
231-786-5
Dichte:
1,98 g/cm³
Aussehen:
weißes kristallines Pulver
Sicherheitsbeschreibung:
S22;S24;S26;S37
Gefahrenbeschreibung:
R8;R22;R36/37/38;R42/43
Molekulargewicht:
228.201
Hervorheben:

99

,

99 % reines Ammoniumpersulfat

,

PCB-Räder-APS

Produktbeschreibung
Hochreines Ammoniumpersulfat in Elektronikqualität

Hochreines Oxidationsmittel, entwickelt für die moderne Elektronikfertigung mit garantierter Mindestreinheit von99,99%. Sorgfältig aufbereitet, um Spurenmetalle, Halogenide und Partikelverunreinigungen zu eliminieren, die die Leistung von Halbleiterbauelementen und Leiterplatten beeinträchtigen.

Hauptmerkmale & Vorteile
  • Ultrahohe Reinheit (mind. 99,99%): Streng kontrollierte Verunreinigungsgrenzwerte für Übergangsmetalle und Halogenide eliminieren ionische Kontamination, Dendritenwachstum und Oberflächenfehler
  • Präzise Ätzfähigkeit: Lineare, vorhersagbare Ätzraten halten enge Toleranzen für hochdichte Verbindungsebenen und Halbleitergehäuse ein
  • Saubere Oxidationswirkung: Zersetzt sich in harmlose Nebenprodukte ohne korrosive Chloridrückstände und unterstützt umweltfreundlichere Fertigungsprozesse
  • Überlegene Oberflächenaktivierung: Erzeugt gleichmäßige, mikroskopisch aufgeraute Oberflächen zur Verbesserung der Haftung von Fotolacken, Lötstopplacken und Metallabscheidungsschichten
Technische Spezifikationen
Chemischer Name Ammoniumperoxodisulfat / Ammoniumpersulfat
CAS-Nummer 7727-54-0
Summenformel (NH₄)₂S₂O₈
Reinheit ≥ 99,99%
Aussehen Weißes kristallines Pulver
Aktivsauerstoff ≥ 6,9%
pH-Wert (1%ige Lösung) 3,0 - 5,0
Chloride (Cl) ≤ 5 ppm
Eisen (Fe) ≤ 1 ppm
Schwermetalle (als Pb) ≤ 2 ppm
Glührückstand ≤ 0,02%
Anwendungen
Leiterplattenätzen (innere & äußere Lagen)

Bevorzugtes Ätzmittel für die innere Lagenbildgebung in doppelseitigen und mehrlagigen Leiterplatten. Entfernt selektiv unerwünschtes Kupfer mit hoher Löslichkeit und sauberer Reaktion, wodurch feine Geometrien bis zu 2 mil Linien und Abstände erzielt werden.

Halbleiterfertigung

Verwendet in der Waferfertigung und im fortschrittlichen Packaging für:

  • Front-End of Line (FEOL): Oberflächenreinigung und Oxidation von Siliziumsubstraten
  • Back-End of Line (BEOL): Mikroätzen von Kupfer-Damascene-Strukturen und Entfernung von Polymerrückständen
  • Reinigung von Leadframes: Entfernung von Oxiden von kupfer- oder silberbeschichteten Leadframes für zuverlässiges Bonden
Fotolackentfernung & Oberflächenvorbereitung

Wirksam bei der Oxidation und Solubilisierung von gehärteten Fotolackrückständen. Erzeugt mechanisch ineinandergreifende Oberflächenprofile für verbesserte Metall-Metall-Haftung bei ENIG- und stromlosen Kupferabscheidungsprozessen.

Anwendungshinweise

Lösungsherstellung: Als 15-25%ige (w/v) wässrige Lösung bei 40-50°C (104-122°F) erwärmt zubereiten, um optimale Ätzraten von 0,5-1,5 µm pro Minute zu erzielen.

Prozesskontrolle
  • Ätzratenüberwachung: Kupfergehalt unter 30 g/L halten mit regelmäßiger Dichtemessung
  • Temperaturkontrolle: Thermostatisch geregelte Wanne verwenden; Temperaturen über 60°C vermeiden
  • Agitation: Sprühätzen oder Zwangsumwälzung für gleichmäßiges Ätzen implementieren

Stabilisierung: Arbeitslösungen sollten je nach Durchsatz nachgespeist oder ersetzt werden. Frischansatz wird für Anwendungen mit höchster Reinheit empfohlen.

Sicherheit & Handhabung

Als starkes Oxidationsmittel ist strikte Einhaltung der Sicherheitsprotokolle erforderlich:

  • Persönliche Schutzausrüstung (PSA): Chemikalienbeständige Handschuhe, Schutzbrillen, Schürzen und NIOSH-zugelassene Atemschutzmasken für staubige Bereiche
  • Belüftung: In gut belüfteten Bereichen oder unter lokaler Absaugung verwenden
  • Lagerung: Kühl, trocken und unter 30°C (86°F) lagern, fern von Reduktionsmitteln, Laugen und brennbaren Materialien
  • Inkompatibilität: Kontakt mit starken Reduktionsmitteln, fein verteilten Metallen und organischen Verbindungen vermeiden
  • Erste Hilfe: Bei Hautkontakt gründlich mit Wasser und Seife waschen. Bei Augenkontakt 15 Minuten mit Wasser spülen und ärztliche Hilfe in Anspruch nehmen
Verpackung & Logistik

Unter sauberen Bedingungen verpackt, um die ultrahohe Reinheit zu erhalten:

  • 25 kg Faserfässer mit Polyethylen-Inlinern
  • 25 kg mehrlagige Kraftpapiertüten mit Feuchtigkeitsschutz
  • Sonderverpackungen auf Anfrage erhältlich

Alle Behälter sind mit Chargennummern, Herstellungsdaten und vollständigen Rückverfolgungsdokumenten, einschließlich Analysezertifikat (CoA) für jede Charge, klar gekennzeichnet.

Schlussfolgerung

Hochreines Ammoniumpersulfat in Elektronikqualität (mind. 99,99%) liefert die Reinheit, Konsistenz und Leistung, die erforderlich sind, um die anspruchsvollen Industriestandards für die Halbleiterfertigung und Leiterplattenherstellung zu erfüllen. Gewährleistet präzise Ätzraten, makellose Oberflächen und zuverlässige Leistung für hochzuverlässige elektronische Komponenten.

Sitemap |  Privacy policy | Gute Qualität Chinas Persulfate Lieferant. Copyright-© 2025-2026 Sichuan Hongjian Xinyi Technology Co., Ltd. . Alle Rechte vorbehalten.